中
EN
当前位置：首页 > 行业应用>半导体
作者：创始人 时间：2025-08-22
1.溶液：SPM 511（硫酸+双氧水+水=5:1:1）
2.功能：去除晶片上面残留的金属污染物与颗粒
3.槽体：QDR (Quick Dump Rinse Tank 快排清洗槽)
上一篇：RCA清洗设备
下一篇：炉管清洗机
